Nastran中应变方向如何确定？

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问题：近期使用Nastran做一个算例，在计算频响时发现：位移场是连续的，而应变量场不连续。以某一频率处应变量场为例，其X、Y方向应变量场分布如图所示。此处关闭了云图的插值。

问题

近日使用Nastran做一个算例，在计算频响时发现：位移场是连续的，而应变场不连续。以某一频率处应变场为例，其上表面X、Y方向应变场分布如下图。此处关闭了云图的插值，所显示的为单元的应变，因此云图显示是离散的。

从云图中可以看出，部分区域应变场出现了明显不正常分布，尤其以右下侧区域最为明显，小孔周围的应变分布同样不合理。经过对用户手册和相关书籍的阅读，很容易找到原因，不过通过Bing搜索出来的结果实在少，这样的问题居然困扰了我几天，那便发一篇以作参考吧。

Nastran的单元坐标系

Nastran中坐标系有全局坐标系、材料坐标系、单元坐标系等。通常建模与节点编辑在全局坐标系下处理，也可以通过用户自定义坐标系进行相关处理，材料坐标系则通常用于各项异性材料的方向定义。单元坐标系对于梁、壳单元而言十分重要，相关属性需要针对单元坐标系设置，如梁的截面。而壳单元的坐标系最常用的体现在其法方向上，壳的偏置正是需要根据正法向方向进行设置。这在过去笔者的经验中吃过一次亏：使用HyperMesh时有部分单元需要手动调整，手动建立的2D单元在无偏置时是没有明显区别的，但仍能在某些单元的边界处看到明显的黑色实线边界，似乎与周围单元不一致，如下图，这正是法向相反的原因，当对单元进行整体偏置时效果就显示出来了。